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    消耗臭氧层物质有哪些？

    国际组织《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》及其该《议定书修正》规定了15种氯氟烷烃（CFCs）、 3种哈龙、40种含氢氯氟烷烃（HCFCs）、34种含氢溴氟烷烃（HBFCs）、四氯化碳（CCl4）、甲基氯仿（CH3CCl3）和甲基溴（CH3Br）为控制运用的消耗臭氧层物质，也称受控物质。

    氯氟烷烃（CFCs）。此类化合物自1928年人类首次合成后被以多种方式运用，冰箱、空调制冷剂、气雾剂制品中的推进剂（CFC11、CFC12）、生产靠垫和垫子的软发泡剂、印刷线路板和其它设备的清洗剂等。

    含氢氯氟烷烃（HCFC）。此类物质是CFCs的一种过渡性替代品，HCFC因为含有H，使得它在底层大气易于分解，对O3层的破坏能力低于CFCs，但长期和大量运用对O3层危害也很大。

    在工程和生产中作为溶剂的四氯化碳（CCl4）和甲基氯仿（CH3CCl3）同样具有很大的破坏O3层的潜值，所以也被列为受控物质。

    溴氟烷烃主要是哈龙：哈龙1211（CF2BrCl）、哈龙1310（CF3Br）、哈龙2420（C2F4Br2），这些物质一般用作特殊场合的灭火剂。此类物质对臭氧层最具破坏性，比CFCs高3～10倍，1994年发达国家已经停止这3种哈龙的生产。

    用于土壤熏蒸和检疫的另一种破坏臭氧层的含溴化合物即甲基溴（CH3Br）引起了人们的重视，它也被列为受控物质。

    我们能做些什么

    不要排放CFCs，而应该回收它们。（何富军）